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国际商标注册谈集成电路与知识产权

  • 来源:广东利天下知识产权代理有限公司 更新时间:2016-08-18点击:309次
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    从法律的角度看,集成电路法律保护是一个综合性问题。对于具体的集成电路产品,它 可以依民法中有关所有权的规定受到保护。对于利用集成电路从事犯罪活动的,应当受到刑 法的制裁。在现代信息社会中,用知识产权法来保护集成电路技术则显得尤为重要。传统的 知识产权法大致可以划分为著作权法、专利法、商标法等几个方面。但由于集成电路有其不 同于传统知识产权客体的独到特点,依靠现有的这些法律无法予以充分的保护,为了适应这 一需求,诞生了一种专门保护集成电路的新型知识产权,即集成电路布图设计权。这是知识 产权法的最新发展之一。

    中国作为发展中国家中的大国,从自身的长远利益考虑,对知识产权保护问题予以高度 重视,对集成电路的保护自然也不应例外。因此,有必要像制订其他有关知识产权法,如专 利法、商标法、著作权法一样,制订一部既适应我国集成电路产业发展现状,又符合国际知 识产权保护原则的专门法律,来保护集成电路。

    一、集成电路知识产权的特点

    从国际上已经形成的集成电路法律保护制度看,法律所直接保护的对象并不是集成电路产品本身,而是集成电路布图设计(1ayoutdesign)。因此,所谓集成电路知识产权,实质上 是布图设计权。法律通过保护布图设计来达到保护集成电路的目的。不同国家在立法中对布 图设计分别采用了不同的名称:美国称之为掩模作品(maskworks);日本叫作电路布局(cir— cuitlayout);西欧各国在其立法中则采形貌结构(topography)这一提法,而世界知识产权组 织在《关于集成电路的知识产权条约》中把它叫作布图设计。笔者以为,在这众多的名词中 还是以“布图设计”一词为最佳。“掩模作品”一词取意于集成电路生产中的掩模。集成电路技术发展到今天,已可不使用掩模版生产集成电路了,如采用离子注入技术、电子束曝光技术等等,所以“掩模用品”已有过时之嫌。面“线路布局”一词又难免与电子线路板的布线设计相混淆,故亦有不妥之处。“形貌结构”一词原意为地貌、地形,并非电子学术语,用以指布图设计只是一种借用。有人将“topography”译作“拓朴图”,此属音意合译。在国内集成电路设计行业中,拓朴图的含义是比较宽泛的,通常把某些尚未最后形成布图设计的前期设计也称作拓朴图,所以将其汉译为拓朴图可能造成设计人的误解。当然还有学者将该词译作,“构形”。相比之下,还是世界知识产权组织采用的尸布图设计“一词比较妥当;它不仅避免了其他各词的缺陷,而且这一名词本身在产业界及有关学术界已广泛使用。《中国大百科电子学与计算机》中亦有?布图设计”的专门词条集成电路设计是人类智力劳动的成果,它的保护问题理所当然地应受知识产权法调整。作为知识产权的客体之一,布图设计有着与其他客体相同的共性;同时它又具有独特的个性。

    首先,集成电路布图设计具有无形性。无形性是知识产权客体的共同属性,也是最基本的特点。这是集成电路布图设计作为知识产权客体的必要条件。所谓集成电路布图设计是指以任何方式固定或者编码的一系列相关图像:(1)它反映了用以构成集成电路产品的材料层之间的三维配置模式;(2)每一图像分别体现了集成电路产品制造过程中各阶段的表面模式的整体或部分。由此可知,布图设计实际上是图形化的集成电路中各元件的配置方式,这种配置方式本身是抽象的、无形的。它没有具体的的形体,而是以一种信息状态存在于世,不像有形物体占居一定的空间。但是当它附着于一定的载体时,就可以通过有形载体为人所感知。

    其次,布图设计具有可复制性。可复制性是著作权客体应当具备的一个基本特征,因为 著作权中最基本的权利即为复制权。而布图设计同样也具备可复制性,从这种意义上看,布 闺设计兼有著作权客体的特征。当布图设计的载体为掩模版时,布图设计以图形方式存在于 掩模版上。这时只要对全套掩模版加以翻拍,即可复制出全部的布图设计。当布图设计以磁 带或磁盘为载体时,同样可以采用通常的磁盘或磁带拷贝方法复制以布图设计为内容的编码,从而达到复制布图设计的目的。当布图设计被“固化”到集成电路芯片产品中时,复制布图设计的过程相对复杂一些,但仍可将其复制。这种从集成电路新产品入手,利用各种特殊技术手段复制集成电路布图设计,了解分析其功能的方法被称作“反向工程”(reverseengineeing)。由此可知,无论集成电路布图设计以什么为载体,也无论布图设计以何种方式存在,总可以通过适当的方法对布图设计加以复制。

    第三,集成电路布图设计的表现形式具有非任意性。集成电路是一种电子产品,其电子 功能的实现有赖于布图设计的特定图形的组合。换言之,布图设计直接与一定的电子功能相 联系。因此,布图设计的表现形式受到诸多因素的限制,这不同于一般著作权客体。对于一 般著作权客体,同一思想或观点,不同的作者可以采用完全不同的形式来表达,其表现形式 通常是没有限制的。著作权法对作品表现形式的保护绝对不会导致对思想、观点以及概念的 垄断。这正是著作权法的基本原则之一,即著作权法只保护作品的表现形式,而不保护作品 的内在思想。

    集成电路布图设计表现形式的有限性主要表现在以下几个方面。第十,布图设计图形的形状及其大小受到集成电路产品的电参数要求的限制。在设计中,为了追求集成电路的耐压 特征,设计者不得不将晶体管基区图形设计为圆形,这样才能减小因结晶曲率半径过小而导致电场过于集中,从而发生击穿的可能性。同样,为了提高集成电路的功率参数,相应各件图设计图形的尺寸均应增大,使之得以承受大电流的冲击。第二,布图设计还受到生产工艺技术水平的限制。为了提高集成电路的集成密度或者为:了改善其交流特性,设计时常将集成电路中各元件的图形尺寸尽可能缩小。这样,布图设计中的线条宽度相对较细。但是,线条的粗细是受到生产工艺水平限制的。如果将布图设计线条设计得太细,以致工艺难度太大就将极大地影响集成电路产品的成品率和可靠性,从而使该产品丧失商业价值。相反,如果为追求功率参数而一味地扩大布图设计的面积,也会导致集成电路芯片成品率下降。因为芯片材料晶格完整程度或其晶格缺陷密度的大小与生产工艺技术水平直接相关。芯片面积越大,其中所包含的缺陷也越多,故因缺陷而导致芯片失效的概率也越大。此外,布图设计还受着‘些物理规律以及材料种类、性能等因素的制约。比如,为克服晶体管中因基区自偏压效应而导致发射极间电位高低不等的现象,设计者通常不得不在布图设计中专门加上均压图形,或称均压条,类似的情况还有不少。

     

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